眾合產(chǎn)品
ZHONGHE PRODUCTS
電子氣體
所屬分類(lèi):
產(chǎn)品中心
電子特種氣體是發(fā)展集成電路、光電子、微電子,特別是超大規模集成電路、液晶顯示器件、半導體發(fā)光器件和半導體材料制造過(guò)程中不可缺少的基礎性支撐源材料,它被稱(chēng)為電子工業(yè)的“血液”和“糧食”,它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質(zhì)量、集成度、特定技術(shù)指標和成品率,并從根本上制約著(zhù)電路和器件的精確性和準確性。
分類(lèi) | 氣體名稱(chēng) |
摻雜氣 | AsH3、PH3、GeH4、B2H6、AsCl3、AsF3、H2S、BF3、BCl3、H2Se、SbH3、(CH3)2Te、(CH3)2Cd、(C2H5)2Cd、PCl3、(C2H5)2Te |
晶體生長(cháng)氣 | SiH4、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、B2H6、BBr3、BCl3、AsH3、PH3、GeH4、TeH2、 (CH3)Al、(C2H5)3Al、(CH3)3As、(C2H5)3As、(CH3)2Hg、(CH3)3P、(C2H5)3P、SnCl4、GeCll4、SbCl5、AlCl3、Ar、He、H2 |
氣相蝕刻氣 | Cl2、HCl、HF、HBr、SF6 |
等離子蝕刻氣 | SiH4、CF4、C3F8、CHF3、C2F6、CClF3、O2、C2ClF5、NF3、SF6、BCl3、CHFCl2、N2、He、Ar |
離子束蝕刻氣 | C3F8、CHF3、CClF3、CF4 |
離子注入氣 | AsF3、PF3、PH3、BF3、BCl3、SiF4、SF6、H2、N2 |
化學(xué)氣相沉積氣 | SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、NH3、NO、O2 |
平衡氣(稀釋氣) | N2、Ar、He、H2、CO2、N2O、O2 |
外延氣 | SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、Si2H6、HCl、PH3、AsH3、B2H6、He、H2、N2、Ar |
電子特氣設備
關(guān)鍵詞:
眾合氣體
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